일반기술
반도체 웨이퍼 폴리싱 장치의 유동헤드장치
본 발명에 개시된 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치의 유동헤드는 폴리싱 패드를 형성한 테이블과, 상기 테이블의 폴리싱 표면에 대하여 웨이퍼를 유지하기 위하여 고정자로 설치된 유동헤드로 구성된 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치에 있어서, 상기 유동헤드에는 내부에 웨이퍼의 가압력과 마찰력을 측정하기 위하여 설치되는 로드셀과 피에조센서로 구성된 감지수단이 설치된다.이와 같은 반도체 웨이퍼 폴리싱 장치의 유동헤드는 집적회로 등이 만들어지게 되는 반도체 웨이퍼 재료를 폴리싱하는 것에 관한 것이다. 즉, 폴리싱 패드 표면에 대한 최적의 마찰력과 가압력이 유지되도록 유동헤드에 설치되는 로드셀과 피에조센서를 이용 웨이퍼에 전달되는 진동 감지뿐만 아니라 마찰력과 가압력 신호를 출력하여 파이널 폴리싱이 정밀하게 도모되도록 한 효과가 있다.
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 정밀기계
- 보유기관
- 인하대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-11-14
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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