일반기술

가변형 인터디지털 캐패시티 및 그 제조방법

기술개요 - 본 기술은 가변형 인터디지털 캐패시터 및 그 제조방법에 관한것으로 보다 상세하게는 인터디지털 캐패시터 전극의 가장자리에서 발생한 가장자리 전계를 유전체 내주에 집중하여 전계의 분호를 균일하게 함으로써, 인터디지털 캐패시터의 가변성(tunability)을 증가시킬 뿐만 아니라 동작전압을 감소시킬 수 있는 가변형 인터디지털 캐패시터 및 그 제조방법에 관한 것이다.기술특징 - 가변형 인터디지털 캐패시터 및 그 제조방법에 관한 것으로, 기판상에 형성되며, 상면에 접지선 및 신호선을 포함한 인터디지털 캐패시터의 전극패턴 홈이 형성된 제 1유전체증과, 상기 제 1 유전체층의 상면에 형성된 접지선 및 신호선을 포함한 인터디지털 캐패시터의 전극패턴 홈 내에 형성되는 전극용 금속패턴과, 상기 접지선 및 신호선의 일부분을 제외한 상기 전극용 금속패턴의 전체를 감싸도록 상기 제 1 유전체층의 상면에 형성되는 제 2 유전체층을 포함함으로써, 가변 인터디지털 캐패시터의 가변성 (tunability)을 증가시킬 뿐만 아니라 동작전압을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.