일반기술

가변형 개패시터 및 그 제조방법

기술개요 - 본 기술은 가변형 캐패시터 및 그 제조방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 평행판 캐패시터 상부전극의 모양을 기존의 사각형에 핑거형(Finger)이나 메쉬(Mesh)형으로 다양하게 변형시켜 전극 주위에 가장자리 전계의 형성을 증가시켜 상/하부전극 사이의 가변 유전체에 균일하게 분포시킴으로써, 가변성을 증가시키고 인가전압을 감소시킬 수 있는 가변형 캐패시터 및 그 제조방법에 관한 것이다.기술특징 - 기판과 상기 기판의 상면에 형성되는 하부전극과, 상기 하부전극의 말단 부분을 제외하 전체를 감싸도록 상기 하부전극을 포함한 기판 상에 형성되는 유전체층과, 상기 유전체층이 상면에 가장자리 전계가 많이 발생하도록 형성되는 핑거(Finger)형 또는 메쉬(Mesh)형 구조의 상부전극을 포함한다. 또한 평행판 캐패시터의 상부전극에 의해 전극의 가장자리에서 발생한 가장자리 전계를 가변 유전체에 균일하게 분포시킴으로써, 가변성(Tunability)을 증가시키고 인가전압을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.