일반기술
리소그래피 시뮬레이터
본 발명에서는 우리나라 자체의 시뮬레이터를 개발하는데 목적을 두고 광 및 에너지 분포를 구하여 deep ultraviolet resist인 화학 증폭형 resist나 resist에 따른 복잡한 공정을 처리할 수 있는 기본 툴을 만들어, 컴퓨터 계산 시간을 최소한으로 줄이고 Proximity 효과를 처리할 수 있는 툴을 만들고, 개발된 툴을 사용자가 쉽게 쓸 수 있도록 하면서 1GDRAM이상의 소자 양산에 적용할 수 있는 새로운 노광 방법을 개발하고자 한다. 또한 보다 나은 사용자의 편의를 위해 편리한 GUI환경을 구축한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 인하대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-11-28
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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