일반기술
전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조방법 및 그장치
제시된 발명은 탐침소재의 끝단에 추를 매달아 에칭과정중 탐침소재의 진직도를 높여 에칭균일도를 향상하고 드롭-오프(drop-off)되는 순간 추가 제거됨에 의해 탐침소재내의 잔류응력에 의해 고유굴곡상태로 복원되면서 계면을 벗어나 과에칭되는 것을 방지하는 전기화학적 에칭법을 이용한 마이크로 탐침 제조방법 및 그 장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명은 간소한 장비로 안정적이고 원활한 에칭을 유도하여 좋은 품질의 제품을 생산하고 제조시간을 단축하여 생산성을 향상할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 광주과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-01
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.