일반기술

비선형 광학 결정의 신속한 위상정합 온도 평형을 이루는제 2고조파 발생 시스템

제 2고조파 빛 발생을 위한 비선형 광학 결정의 위상정합 온도의 안정화 상태(열적 평형 상태)로 이르는 시간을 단축시키기 위한 제 2고조파 발생 시스템이 개시된다. 제 2고조파 발생 시스템은, 일정한 온도를 유지하고 있는 오븐 내에 배치되어 있으며, 제 2고조파 빛 에너지를 흡수하는 비선형 광학 결정; 기본파를 비선형 광학 결정으로 입사시키는 기본파 광원; 비선형 광학 결정에서 나온 상기 기본파와 상기 제 2 고조파를 분리하는 빔 스플리터; 비선형 광학 결정과 연결되어서 비선형 광학 결정의 온도를 감지하고 그에 따라 비선형 광학 결정의 온도를 열적 평형 상태의 위상정합의 실제 온도 또는 상기 위상정합의 실제 온도보다 낮은 온도로 유지시키기 위한 온도유지회로와, 온도유지회로의 출력에 따라서 비선형 광학 결정을 가열하기 위한 전류를 발생하는 발열기로 이루어진 위상정합 온도 조절기; 및 위상정합 온도 조절기의 발열기에 연결되어서, 장시간 기본파 입사가 없고 비선형 광학 결정이 상기 위상정합의 실제 온도 보다 낮은 온도로 유지되고 있는 상태에서 기본파가 입사될 때 비선형 광학 결정이 신속하게 열적 평형 상태의 위상정합 실제 온도에 도달하도록, 위상정합 온도 조절기의 발열기를 통해서 비선형 광학 결정을 일시적으로 가열시키는 추가/보조 가열소스를 포함한다.