일반기술
특정 패턴 형성을 위한 리소그래피 공정 전산 모사 방법
기술 개요)O반도체 리소그래피에 관한 것으로서, 반도체의 광콘트라스트 특성에 따른 리소그래피에 관한 것임기술 특징 및 대표 청구항)O반도체 제조 공정 중 웨이퍼 상에 원하는 모양으로 패턴을 형성하는 리소그래피 공정 과정에 있어,반도체를 수직으로 2개 이상 적층하여 각 반도체의 광 콘트라스트 특징에 따라 각각 다른 식각 과정이 생기며 이에 따라 원하는 구조의 패턴을 간단하게 얻을 수 있는 리소그래피 해석 방법임
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 인하대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-08
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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