일반기술
산화티타늄 박막 및 이의 제조방법
o 기술 요약 및 특징산화티타늄 박막은 증착대상물의 일측 상면에 APCVD(Atmosphere Pressure CVD), LPCVD(LowPressure CVD), PECVD(Plasma Enhanced CVD)법 중 선택된 하나 이상의 공정에 의해 광촉매 물질이 코팅되는 것으로, 상기 CVD법을 적용하면 불순물이 제거된 양질의 박막을 얻을 수 있으며, 넓은 면적에 박막을 균일하게 증착시킬 수 있고, 저온에서도 박막을 증착시킬 수 있는 효과가 있음o관련기술정보 및 현황 - 산화티타늄 광촉매는 기존에 파우더 형태로 제조되었으나 산화티늄을 박막형태로 증착대상물에 고정하는 방법 개발 진행중 - 시장규모가 후에도 지속적으로 성장할 것으로 예상됨
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 특수기능재료
- 보유기관
- 전남대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-09
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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