일반기술
화학기상증착법을 이용한 티타늄 산화막 제조방법
o 기술 요약 및 특징종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, CVD 방법을 사용한 인-시츄 공정으로 다른 부가적인 공정이 없이 C, N 등의 불순물이 인-시츄로 도핑된 티타늄 산화막의 광촉매를 제공함과 동시에 기상 반응에 따른 미립자의 생성을 방지하여 고품질을 유지할 수 있는 티타늄 산화막 및 그 제조방법을 제공o 관련기술정보 및 현황 - 저온에서 결정화된 TiOx 박막을 제조하는 방법을 사용하여 실용성이 우수함. - 소량의 이종 물질을 정량적으로 내재시킬 수 있어 TiOx막의 물성을 용도에 맞게 제어가 가능함.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 전자기 기능재료
- 보유기관
- 전남대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-09
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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