일반기술

티타늄 산화막 제조방법

o 기술 요약 및 특징종래의 방법에 따르면, 그 제조 방법이 인-시츄로 이루어지지 않고 엑-시츄(ex-situ)로 이루어지는 이유 즉, TiO2 막 증착 후 도핑 단계를 거치는 2단계로 구성이 되어 있기 때문에 제조 공정이 매우 복잡한 문제가 있으므로, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 화학기상증착법(chemical vapordeposition)을 이용한 인-시츄 방법으로 C, N 등을 TiO2에 도핑시킴에 따라 가시광선 영역에서도 광학 활성도가 우수한 티타늄 산화막을 얻을 수 있는 티타늄 산화막의 제조방법을 제공하며, 또한 부가적인 공정이 없이 C, N 등의 불순물이 인-시츄로 도핑된 티타늄 산화막의 광촉매를 제공하기 위함o 관련기술정보 및 현황 - 저온에서 결정화된 TiOx 박막을 제조하는 방법을 사용하여 실용성이 우수함. - 소량의 이종 물질을 정량적으로 내재시킬 수 있어 TiOx막의 물성을 용도에 맞게 제어가 가능함.