일반기술

급속 성형이 가능한 나노임프린트리소그래피 장치 및가열방법

본 기술은 급속 성형이 가능한 임프린트 리소그래피 장치 및 가열 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 나노임프린트 리소그래피용 금속몰드를 고주파유도가열을 이용해 급속으로 가열하되, 고주파유도가열 코일을 사각스프링형상으로 금속몰드를 감싸도록 형성함으로써 균일한 온도분포를 유지할 수 있고, 급속으로 가열된 금속몰드는 고분자 레지스트(polymer resist)의 표면만 순간적으로 유리전이온도(Tg)이상으로 가열시켜 이미 금속몰드에 각인된 미세패턴을 고분자 레지스트에 가압하여 전사시키는 것을 특징으로 하는 급속 성형이 가능한 미세 임프린트 리소그래피 장치 및 가열 방법에 관한 것이다.본 기술 고분자 레지스트의 표면에 미세 패턴을 급속으로 성형할 수 있는 임프린트 리소그래피 장치에 있어서, 내부에 밀폐 공간 형성이 가능한 챔버,챔버 내부의 압력(진공)을 조절할 수 있는 압력조절 수단, 챔버 내부 하측에 마련되며, 그 상부에 가공대상물이 위치되는 하부 베이스, 챔버 내부 상측에 마련되며 그 하부에 스탬프가 위치되는 상부 베이스, 하부베이스를 기반으로 상부 베이스를 상하 이동을 하며 이를 가이드 해주는 역할을 하는 슬라이드 가이드 바를 포함하는 상부베이스 수직 이동수단, 하부베이스에 일측이 고정되고 상부 베이스와의 상대적인 이동이 가능하도록 설치되는 가압수단, 냉각수가 내부에 순환되는 상부지지판 및 하부 지지판 사이에 설치되는 나노 또는 마이크로 스케일의 원하는 패턴을 가지는 금속스탬프, 금속스탬프의 패턴이 전사되는 고분자 레지스트 및 고분자 레지스트의 하부에 위치하는 금속스탬프와 동일한 크기 및 재질로 이루어지는 금속지지판, 상기 고분자 레지스트를 금속스탬프와 금속지지판재 사이에 공급하는 이송수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피 장치를 제공함으로서 달성된다.