일반기술

나노급 미세패턴회로 및 그의 제조방법

본 기술은 나노급 미세패턴회로 및 그의 제조방법에 관한 것으로 특히, 직육면 판체 형상을 갖는 탄소 유리의 상면에 집속 이온 빔을 정해진 폭과 간격을 두고 조사하여 나노미터 급의 폭과 깊이를 갖는 요홈들을 형성하는 단계와 폴리이미드 판을 가열하여 가융성을 갖도록 하는 단계와 요홈이 구비된 상기 탄소 유리의 상면에 가융성을 갖는 폴리이미드 판을 올려놓고 프레스를 통해 가압하여 폴리이미드 판의 저면에 연속되는 나노미터 급의 철부와 요부를 형성시키는 단계와 상기 폴리이미드 판을 냉각시켜 가융성을 제거한 후 탄소 유리로부터 분리시키는 단계와 상기 폴리이미드 판을 플라즈마 가스체 내에 넣고 플라즈마 처리하여 폴리이미드 판의 요부와 철부를 포함하여 그 상면부에 전기 도금 또는 무전해 도금에 의한 구리 도금층이 형성되도록 하는 단계와 전해연마를 통해 폴리이미드 판의 철부를 포함한 상면에 도포된 구리 도금층을 제거하고 요부 내에 도금된 구리 도금층을 미세패턴회로로 형성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 한다.따라서, 비교적 복잡하고 매우 미세한 나도급 미세패턴회로를 비교적 간단하고 용이하면서도 정확하게 형성할 수 있어 각종 전자제품을 보다 경량화 및 소형화할 수 있는 것이다.