일반기술

진공 플라즈마 스퍼터링 장치

<기술개요 및 특징>냉중성자 유도관의 박막(THIN FILM) 제조및 분광장치 분야에서 광범위하게 사용되어지는 중성자 거울, 단색기, 초거울(SUPER MIRRORS)등의 중성자 광학부품을 개발하기 위한 스퍼터링 장치(SPUTTERING APPARATUS)에 관한 장치.기판(P1)(P2)의 표면상에 플라즈마 증착을 이루도록 된 스퍼터링 장치에 있어서, 일측에는 기판 장입실(12A)이 형성되고, 이에 연통하여 증착실(12B)과 기판 대기실(12C)이 일렬로 배치되고, 상기 증착실(12B)에는 마그네트론 스퍼터링 건(40) 및 트라이오드 스퍼터링 건(50)들이 장착가능한 직선이송형(INLINE) 진공 챔버(10); 기 진공 챔버(10)내에서 기판(P1)(P2)을 상기 기판 장입실(12A)로 부터 증착실(12B)과 기판 대기실(12C)측을 따라서 전,후로 이동시키는 이송 수단(60); 상기 기판(P1)(P2)들이 기판 장입실(12A), 증착실(12B)과, 기판 대기실(12C)에 각각 정확하게 위치되도록 그 위치를 검출하는 검출수단(100);및 상기 기판(P1)P2)들이 마그네트론 스퍼터링 건(40) 및 트라이오드 스퍼터링 건(50)중의 선택되어진 것에 의해서 사전에 설정된 증착 프로그램에 따라 상기 기판 장입실(12A), 증착실(12B)과, 기판 대기실(12C)들을 이동하면서 증착이 이루어지도록 제어하는 콘트롤러(110);들을 포함하여 상기 진공 챔버(10)내에서 상기 마그네트론 스퍼터링 증착 또는 트라이오드 스퍼터링 증착을 박판의 두께에 따라서 선택적으로 이루는 것을 특징으로 하는 진공플라즈마 스퍼터링장치. 하나의 진공 챔버내에서 트라이오드 스퍼터링과 마그네트론 스퍼터링을 선택적으로 실시할 수 있음으로써 박막 두께에 따른 박막 품질을 크게 향상시킬 수 있고, 증착 작업의 생산성을 크게 향상시킬 수 있도록 개선된 진공플라즈마 스퍼터링장치를 제공함마그네트론 스퍼터링 건 및/또는 트라이오드 스퍼터링 건들이 선택적으로 장착가능한 선이송형(INLINE) 진공 챔버; 상기 진공 챔버내에서 기판을 상기 기판 장입실로 부터 증착실과 기판 대기실측을 따라서 전,후로 이동시키는 이송 수단; 상기 기판들이 기판 장입실, 증착실과, 기판 대기실에 각각 정확하게 위치되도록 그 위치를 검출하는 검출수단;및 상기 기판들이 선택되어진 마그네트론 스퍼터링 건 및/또는 트라이오드 스퍼터링 건들에 의해서 증착이 이루어지도록 제어하는 콘트롤러;들을 포함하는 진공 플라즈마 스퍼터링 장치 제시함.