일반기술

고광도의 평행빔 생성 장치

<기술개요 및 특징>미러(mirror)의 적절한 배치를 통해 고광도의 평행빔을 생성하는 장치임.타원형 미러의 배치를 통해 고광도의 평행빔을 생성하는 장치에 있어서,1차 타원의 일 초점에 배치되는 광원;상기 광원으로부터 입사된 빔을 반사시키도록 상기 1차 타원의 단축상의 일 꼭지점에 배치되는 오목 미러로서, 상기 1차 타원의 경계면 모양을 가진 1차 미러; 및상기 광원이 배치되지 않은 1차 타원의 타 초점을 향하여 진행하는 상기 1차 미러에서 반사된 빔의 경로에 배치되는 볼록 미러로서, 상기 볼록 미러에 입사되는 빔들의 입사지점의 접선들간의 각도 차이가, 상기 1차 미러에 입사되는 빔들의 입사지점의 접선들간의 각도 차이의 1/2이 되게 하는 2차 타원의 경계면 모양을 가진 2차 미러;를 구비하는 것을 특징으로 하는 고광도의 평행빔 생성 장치. 미러의 타원형 배치를 통해 종래의 장치보다 더 효과적으로 엑스레이, 중성자빔 등의 광도를 증가시키는 동시에 분산을 줄여 평행빔을 생성하는 새로운 장치를 제공함.현존하는 광학부품들의 효율적인 배치를 통하여 종래의 장치보다 더 효과적으로 엑스레이(x-ray), 중성자 빔 등의 광도를 증가하는 동시에 분산을 줄이는 장치를 제시.