일반기술
폴리실라잔 및 그것의 제조 방법
일반식1)로 표시되는 폴리실라잔 화합물 상기식에서 R1,R2는 각메틸기 또는 아미드기이거나 R2가 아미드인 경우 R1은 메틸기 또는 수소이고, 0.11. 일반식(1)로 표시되는 폴리실라잔 화합물 상기 식에서 R1, R2는 각각 메틸기 또는 아미드기이거나 R2가 아미드인 경우 R1은 메틸기 또는 수소이고, 0.1≤x≤1이고 0≤y≤0.9이며, 분자량은 2,600-100,000이다.2. 제1항에 있어서, 분자량이 10,000-79,000인 것을 특징으로 하는 폴리실라잔 화합물.3. 일반식(2)의 비스실릴메탄과 암모니아를 반응시키고, 얻어진 저분자량 폴리실라잔을 고분자와 반응시키는 것으로 이루어지는, 일반식(1)의 폴리실라잔의 제조방법. 상기 식에서 R1, R2는 각각 메틸기 또는 아미드기이거나 R2가 아미드인 경우 R1는 메틸기 또는 수소이고, 0.1≤x≤1이고 0≤y≤0.9이며, 분자량은 2,600-100,000이고, R3, R4는 각각 메틸기 또는 염소이거나 R4가 염소인 경우 R3은 메틸기 또는 수소이다. 4. 제3항에 있어서, 상기 일반식(2)의 비스실릴메탄이, R3 또는 R4가 서로 같거나 다른 2종류 이상의 비스실릴메탄의 혼합물인 것을 특징으로 하는 제조방법.
기술정보
- 기술분류
- 화학 > 기타 무기화학
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2000-12-15
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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