일반기술
다중 입사광의 파면왜곡 정밀측정 장치 및 그 방법
*둘 이상의 입사광을 파면센서를 다용하여 동시에 파면영상을 획득하고, 획득된 영상에서 고속의 정밀하게 파면형상정보를 추출하고 파면왜곡정보를 계산한 다음 이를 보정함.*광을 이용한 계측시스템이나 레이저 광을 이용한 절단 및 용접시스템에서 광의 파면이 왜곡되면 시스 템의 성능이 떨어지는 것을 방지하기 하기 위하여 둘 이상의 입사광을 파면 센서를 사용하여 동시에 파면영상을 획득하고, 획득된 영상에서 고속의 정밀하게 파면형상정보를 추출하고 파면왜곡 정보를 계산한 다음 이를 보정하는 적응광학시스템장치 및 그 방법을 제공함.*본 기술은 시준렌즈, 하트만 배열렌즈, 카메라 렌즈, CCD촬상센서, 영상처리전용보드, 주운영 컴퓨터, 절연제어드라이브, 기울기 제어드라이브, 기울기 거울, 변형거울 제어드라이브, 변형거울, 마우스 제어장치로 구성되는 장치 및 방법을 제시함.
기술정보
- 기술분류
- 원자력 > 기타 원자력 계측·제어 기술
- 보유기관
- 한국원자력연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.