일반기술
이온 주입에 의한 투명 고분자 막의 표면 내구성 향상 및 광 투과도 조절 방법
*본 기술은 이온을 주입하여 고분자 막의 표면 경도를 향상시키고 광 투과도를 조절하는 방법에 관한 것이다.*본 기술의 목적은 투명한 고분자 막의 표면 경도를 향상시키고 광 투과도를 조절하는 방법을 제공하는 것이다.*상기 목적을 달성하기 위하여, 본 기술에서는 투명한 고분자 막 표면에 100 keV 이하의 저에너지 이온을 주입하여 고분자 막의 표면 경도를 향상시키고 광 투과도를 조절하는 방법을 제공한다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료 공정기술
- 보유기관
- 한국원자력연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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