일반기술
이온 유도 스퍼터링(Ion Induced Sputtering)을 이용한 고밀도 플라즈마 생성법과 그 장치
*이온 유도 스퍼터링 현상을 이용, 고융점 원소를 비롯한 고체원소의 원자를 생성한 후 이온화하여 이로부터 고밀도 플라즈마를 발생시키는 원리와 그 장치.*본 기술은 초기 플라즈마의 이온을 인출하여 금속표적의 이온유도 스퍼터링을 일으켜 생성된 표적 중성원자가 방전함 내부에 금속이온 플라즈마를 발생시키고, 이 금속 플라즈마로부터 인출된 금속이온이 다시 표적의 이온유도 스퍼터링을 일으켜 방전함 내부에 고밀도의 금속 플라즈마를 생성함으로써 자체방전이 가능한 것을 특징으로 하는 이온유도 스퍼터링을 이용한 고밀도 금속 플라즈마 생성법을 제시.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 전자기이용 기술
- 보유기관
- 한국원자력연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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