일반기술
비정질 실리콘층의 결정화 방법
본 기술은 기존의 비정질 실리콘의 결정화 방법과 다르게 화학 반응을 통한 결정화 방법에 관한 것으로, 레이저나 가열로를 통한 결정화 방법은 오랜 시간과 많은 비용이 들어가는 방법인 것에 비해 화학 반응을 통한 결정화 방법은 매우 효과적인 결정화 방법으로 위험성을 수반하지만 매우 고온의 열을 단시간에 낼 수 있다는 장점이 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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