일반기술
집속이온빔을 이용한 나노패턴 형성방법
본 기술 중 대표적 실시예에 따른 항 양태에 따르면 Focused Ion Beam을 이용하여 나노 패터닝을 제작 하는 것으로, FIB로 가공을 할 때에 빔 간격을 조절하여(overlap)적당한 간격으로 유지시키며 웨이퍼를 가공하게 되면 웨이퍼의 형상이 일정한 모양을 갖추며 패턴을 이루게 된다. 그 패턴이 제작된 위에는 Resist가 씌워져 있어 이 부분을 제거해 주면 나중에 평평한 부분을 쉽게 제작할 수 있게 되어 차세대 정보 저장기기의 표면으로 이용하기에 적합하다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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