일반기술
토포그래픽 프리패턴 및 제어된 디웨팅을 통한 고분자 박막의 나노패터닝 방법 및 이로부터 제조된 고분자 박막
Topographic 하게 패턴 된 Si substrate 위에 0.5%의 polystyrene(PS) 용액을 떨어뜨리고 스핀코팅의 방법을 이용해 substrate 위에 PS 박막을 전면코팅을 하였다. 그리고 1시간 30분 동안 150도의 열을 가하여 topographic 한 패턴의 mesa 위에서 폴리머 박막이 dewetting을 일어나게 하여서 선택적으로 mesa 위에서만 약 70nm 정도의 반구 형태의 dewetting 패턴을 만들었다. 또한 pre-pattern 에 SAM 처리를 하고 fluorescence dye를 전면코팅을 한 후 앞과 같이 열을 이용하여 dewetting을 시켜서 고분자들이 hole에만 위치하도록 하여 선택적으로 정렬된 dye 패턴을 얻을 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 고분자재료
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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