일반기술
저 컨택트저항 실리콘계 나노선 및 그 제조방법
저 컨택트저항 실리콘계 나노선이 제공된다. 본 기술에 따른 저 컨택트저항 실리콘계 나노선은 실리콘 또는 실리콘-게르마늄으로 이루어진 코어부; 및 상기 코어부를 둘러싸며 금속규화물로 이루어진 표피부를 포함하며, 본 기술에 따른 나노선을 이용하여 트랜지스터 기타 디바이스를 제작하는 경우 나노선과 금속 배선과의 접합시 저저항의 컨택트를 이룰 수 있으므로 고집적 저저항의 고속 반도체 장치를 제조할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.