일반기술
몰드 처리방법
본 발명은 몰드 처리방법에 관한 것으로서, 소정의 패턴이 형성되어 있는 몰드를 마련하는 단계와; 상기 몰드의 표면에 수산화기 또는 아미노기를 도입하는 단계와; 상기 몰드에 다음 화학식 1로 표현된 표면처리 물질을 가하여 비접착 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.화학식 1.(여기서 R1은 서로 같거나 다를 수 있으며 CH3, F, CF3 중 어느 하나이고, R2는 상기 수산화기 또는 아미노기와 반응가능한 관능기임)이에 의해 몰드와 유기층 간의 접착을 감소시키는 몰드처리방법이 제공된다. 대표청구항) 소정의 패턴이 형성되어 있는 몰드를 마련하는 단계와;상기 몰드의 표면에 수산화기를 도입하는 단계와;상기 몰드에 다음 화학식 1로 표현된 표면처리 물질을 가하여 비접착 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드 처리방법.화학식 1.여기서 R1은 서로 같거나 다를 수 있으며 CH3, F, CF3 중 어느 하나이고, R2는 상기 수산화기 또는 아미노기와 반응가능한 관능기임.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 소자응용 기술
- 보유기관
- 이화여자대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-12-31
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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