일반기술

이온빔과 플라즈마를 이용한 재료의 표면개질 방법

"이온빔 및 플라즈마에 의한 재료의 표면 물성 개질" 기술은 고분자, 세라믹. 금속재료등에 친수성 및 소수성의 기능을 증진시켜 신기능을 부여함으로서 신소재 및 신제품 생산에 획기적인 기여를 할 수 있는 신기술로서 전자재료분야, 의료재료분야, 합성섬유재료분야, 열전달기제조 분야 등 실업 전반에 응용될 수 있는 기술임.1. 증착할 구리를 도가니에 채우는 단계와,기판을 증착위치에 올려 놓은 후, 증착조건의 진공을 유지하는 단계와, 구리가 채워진 도가니를 도가니 필라멘트와 도가니 밤바드먼트를 조절함으로써 클러스터 이온 빔을 형성시키는 단계와, 이온화 필라멘트와 이온화 전압을 조절하여 이온 빔의 일부분을 이온화시키는 단계와, 가속 전압을 조절하여 이온화된 클러스터 이온을 가속시켜 가속된 클러스터 이온 빔과 중성 클러스터 이온 빔을 기판에 증착시키는 단계의 순서로 진행함을 특징으로 하는 이온 클러스터 빔을 이용한 반도체 소자용 구리박막 제조방법.2. 제 1항에 있어서, 상기 증착조건은 10...~10...torr의 고진공 영역을 유지함을 특징으로 하는 이온 클러스터 빔을 이용한 반도체 소자용 구리박막 제조방법.