일반기술

프로페닐 세펨계 화합물 및 이의 제조방법

본 발명은 광범위한 항균력을 지닌 신규한 일반식(I)로 표시되는 프로페닐 세펨계 화합물과 그의 약제학적으로 허용되는 염 및 그 제조 방법에 관한 것으로 입체 구조적으로 syn, anti의 두가지 형태의 이성체를 가질 수 있다. 본 발명은 일반식(III)의 3-클로로메틸 세팔로스포린에 트리페닐포스핀과 요오드를 반응시켜 일반식(IV)의 포스포늄일리드를 제조하는 제1공정 ; 일반식(IV)의 포스포늄일리드를 알데히드 화합물과 비티히반응으로 일반식(V)의 3-클로로프로페닐 화합물을 제조하는 제2공정 ; 일반식(V)의 3-클로로프로페닐화합물을 아세톤 존재하에 염화 요오드와 반응시켜 (E)이성체 프로페닐요오드화합물인 일반식(II)의 3-요오드프로페닐 화합물을 제조하는 제3공정과 ; 일반식(II)의 3-요오드프로페닐 화합물과 일반식(VI)의 피리딘-4-티온 유도체를 용매존재하에 짝지음 반응으로 일반식(VII)의 아세테이트 유도체를 제조하는 제4공정 및 일반식(VII)의 아세테이트 유도체에 아니솔과 트리플루오르아세트산을 사용하는 제5공정으로 이루어진 신규한 일반식(I)로 표시되는 프로페닐 세펨계 화합물을 제조하는 것으로, 본 발명의 화합물들은 그람 양성균이나 그람 음성균에 뛰어난 항균력을 나타내므로 세팔로스포린 화합물계열 의약품에 유용하게 사용할 수 있다. 상기 일반식(I)∼(VII)에 있어서, R1은 메톡시기, 히드록시기, 2-플루오르에톡시기를 의미하며 R2는 메틸기 또는 수소를 의미하고 R3는 벤조기나 수소로서 이중고리구조이거나 단환구조를 의미한다.1.일반식(I)로 표시되는 프로페닐 세펨계 화합물 및 그의 약제학적으로 허용되는 염, 및 그의 입체 구조적으로 syn, anti 형태의 이성체일반식(I)에 있어서, R1은 메톡시기, 히드록시기 또는 2-플루오르에톡시기를 의미하며, R2는 메틸기 또는 수소를 의미하고, R3는 벤조기나 수소로서 이중고리구조이거나 또는 단환구조를 의미한다.2.일반식(III)의 3-클로로메틸 세팔로스포린에 트리페닐포스핀과 요오드를 반응시켜 일반식(IV)의 포스포늄일리드를 제조하는 제1공정 ; 일반식(IV)의 포스포늄일리드를 알데히드 화합물과 비티히반응으로 일반식(V)의 3-클로로프로페닐 화합물을 제조하는 제2공정 ; 일반식(V)의 3-클로로프로페닐화합물을 아세톤 존재하에 염화 요요드와 반응시켜(E)이성체 프로페닐요오드화합물인 일반식(II)로 표시되는 3-요오드프로페닐 화합물을 제조하는 제3공정과 ; 일반식(II)로 표시되는 3-요오드프로페닐 화합물과 일반식(VI)로 표시되는 피리딘-4-티온 유도체를 용매존재하에 짝지음 반응시켜일반식(VII)로 표시되는 아세테이트 유도체를 제조하는 제4공정 ; 일반식(VII)의 아세테이트 유도체에 아니솔과 트리플루오르아세트산을 반응시키는 제5공정으로 이루어진 것이 특징인 일반식(I)로 표시되는 프로페닐 세펨계 화합물의 제조방법일반식(III)에 있어서, R1은 메톡시기, 히드록시기 또는 2-플루오르에톡시기를 의미하며, 일반식(IV)에 있어서, R1은 메톡시기, 히드록시기 또는 2-플루오르에톡시기를 의미하고, 일반식(V)에 있어서, R1은 메톡시기, 히드록시기 또는 2플루오르에톡시기를 의미하며, 일반식(II)에 있어서, R1은 메톡시기, 히드록시기 또는 2-플루오르에톡시기를 의미하며, 일반식(VI)에 있어서, R2는 메틸기 또는 수소를 의미하고, R3는 벤조기나 수소로서 이중고리구조이거나 또는 단환구조를 의미하며, 일반식(VII)에 있어서, R1은 메톡시기, 히드록시기 또는 2-플루오르에톡시기를 의미하며, R2는 메틸기 또는 수소를 의미하고, R3는 벤조기나 수소로서 이중고리구조이거나 또는 단환구조를 의미하고, 일반식(I)에 있어서, R1은 메톡시기, 히드록시기 또는 2-플루오르에톡시기를 의미하며, R2는 메틸기 또는 수소를 의미하며, R3는 벤조기나 소소로서 이중고리구조이거나 또는 단환구조를 의미한다.3.제2항에 있어서, 제4공정에서의 용매가 테트라히드로푸란, 디클로로메탄, 에틸아세테이트 및 클로로포름으로 구성된 군 중에서 하나 이상 선택되는 것이 특징인 방법.4.제2항에 있어서, 제4공정에서의 반응온도가 20∼30℃에서 수행되는 것이 특징인 방법.5.제2항에 있어서, 제5공정이 아니솔과 트리플루오르아세트산 존재하에 -5∼5℃에서 반응시키는 것이 특징인방법