일반기술
침전제 적하법을 이용한 이산화티탄 분말의 제조방법
해당 기술은 이산화티탄 분말의 제조방법에 관한 것으로서, 상온에서 결정성이 우수할 뿐만 아나라 미립자이면서 비표면적이 높아 광촉매로서 유용하게 사용될 수 있도록 하는데 그 목적이 있으며, 상기한 목적을 달성하기 위하여 해당 기술은 사염화티탄(TiCl4)을 염산용액에 적하한 후 증류수를 첨가하여 사염화티탄에 대한 염산의 농도비가 1:2.5몰비 내지 1: 3.5몰비가 되도록한 다음, 여기에 침전제로 중탄산암모늄(NH4HCO3)을 pH6 내지 pH7이 될때까지 적하하면서 교반하여 침전물을 형성시키고, 상기 침전물을 충분히 세척한 후 110℃로 유지된 건조기에서 48시간 건조한 다음 400∼700℃에서 열처리함을 특징으로 하는 침전제 적하법을 이용한 이산화티탄 분말의 제조방법을 제공한다.
기술정보
- 기술분류
- 화학 > 전이금속화학·착물화학
- 보유기관
- 강원대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2009-01-15
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
발명명칭 정보 없음
출원번호 1020010007836