일반기술

온도감응성을 갖는 분해성 폴리포스파젠계 고분자 및 그 제조방법

다음 화학식 1로 표시되는 폴리포스파젠계 고분자 및 그의 제조방법이 제공된다.[화학식 1]본 발명에 따른 폴리포스파젠계 고분자는 온도감응성과 생체분해성을 동시에 가지므로 약물전달시스템을 중심으로 하는 의료용재료분야, 환경분야 및 화장품분야와 같은 다양한 분야에서 응용이 가능하며, 분자내 메톡시폴리에틸렌 및 아미노산에스테르의 조성, 메톡시폴리에틸렌글리콜의 분자량, 아미노산에스테르의 종류에 따라 폴리포스파젠계 고분자의 저임계용액온도와 분해속도를 응용목적에 맞게 조절할 수 있다.1. 다음 화학식 1로 표시되는 폴리포스파젠계 고분자.(식 중 NHA는 아미노산기로서 글라이신기(-NHCH2COO-),알라닌기(-NHCH(CH3)COO-), c-알라닌기(-NHCH2CH2COO-), 아미노말론산기(-NHCH(COO-)2), 아스파르트산기(-NHCH2CH(COO-)COO-),및 글루타민산기(-NHCH(CH2CH2COO-)COO-)중에서 선택되며, R은 메틸기, 에틸기 및 벤질기 중에서 선택되고, m은 폴리에틸렌글리콜의 반복단위로서 2, 7및 16중에서 선택된 정수이고, x는 폴리에틸렌글리콜의 몰 함량으로서 0.2~1.8의 값을 가지며, n은 폴리포스파젠의 중합도로서 10~100의 값을 갖는다)2. 다음 화학식 3의 폴리포스파젠을 화학식 4의 폴리에틸렌글리콜 또는 화학식 5로 표시되는 폴리에틸렌글리콜의 알칼리 금속염과 1:0.2~1.8의 몰비로 유기용매 중에서 먼저 반응시킨 후 여기에 화학식 6의 아미노산에스테르를 미치환 염소(1.8~0.2몰)에 대하여 2당량 반응시켜 화학식 1의 폴리포스파젠계 고분자 물질을 제조하는 방법.(식 중 NHA는 아미노산기로서 글라이신기(-NHCH2COO-),알라닌기(-NHCH(CH3)COO-), c-알라닌기(-NHCH2CH2COO-), 아미노말론산기(-NHCH(COO-)2), 아스파르트산기(-NHCH2CH(COO-)COO-),및 글루타민산기(-NHCH(CH2CH2COO-)COO-)중에서 선택되며, R은 메틸기, 에틸기 및 벤질기 중에서 선택되고, m은 폴리에틸렌글리콜의 반복단위로서 2, 7및 16중에서 선택된 정수이고, x는 폴리에틸렌글리콜의 몰 함량으로서 0.2~1.8의 값을 가지며, n은 폴리포스파젠의 중합도로서 10~100의 값을 갖는다)3. 제 2항에 있어서, 화학식 4및 화학식 5의 폴리에틸렌글리콜은 m=2,7,16중에서 선택된 수용성 알코올이며 화학식 6의 아미노산에스테르는 글라이신, 알라닌, ...-알라닌, 아미노말론산, 아스파르트산, 글루타민산의 메틸에스테르나 에틸에스테르 또는 벤질에스테르 중에서 선택된 소수성 아미노산에스테르인 것이 특징인 방법.4. 제 2항에 있어서, 화학식 3의 폴리디클로로포스파젠과 화학식 4의 폴리에틸렌글리콜을 반응시킬 때 화학식 4의 2당량에 해당하는 트리에틸아민을 넣고 상온에서 반응시키는 것이 특징인 방법.5. 제 2항에 있어서, 화학식 3의 폴리디클로로포스파젠과 화학식 5의 폴리에틸렌글리콜의 ㅇ알카리금속염을 반응시킬 때 미리 화학식 4의 폴리에틸렌글리콜과 화학식 4의 1.5당량의 금속나트륨을 반응시켜 화학식 5의 알카리 금속염으로 바꾼후 화학식 3의 폴리디클로로포스파젠과 반응시키는 것을 특징으로 하는 방법.6. 제 2항에 있어서, 화학식 3의 폴리디클로로포스파젠과 먼저 화학식 4의 폴리에틸렌글리콜 또는 화학식 5의 그 알카리금속염을 반응시킨 후 미치환 염소에 대하여 2당량에 해당하는 화학식 6의 아미노산을 트리에틸아민존재하에 반응시키는 것을 특징으로 하는 방법.7. 제 2항에 있어서, 반응용매로 테트라히드로퓨란, 톨루엔, 벤젠과 같은 유기용매를 사용하는 것이 특징인 방법.8. 제 2항에 있어서, 화학식 3의 폴리디클로로포스파젠과 화학식 4의 폴리에틸렌글리콜 또는 화학식 5의 폴리에틸렌글리콜의 알카리금속염 및 화학식 6의 아미노산을 반응시킨 후 과량의 에틸에테르 또는 헥산을 가하여 고분자 생성물을 침전시키는 것이 특징인 방법.9. 제 8항에 있어서, 얻은 침전물을 물에 녹여 투석막(통과분자량<3500)을 사용하여 투석정제하는 것을 특징으로 하는 방법.

기술정보

기술분류
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
보유기관
한국과학기술연구원
기술유형
일반기술
등록일
2000-12-15
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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