일반기술

페쇄적인 전자 표류를 갖는 가속기의 원리에 기반한 선형 이온-플라즈마 소스

전자의 폐쇄적인 표류를 갖는 가속기의 원리에 기반한 선형 이온-플라즈마 소스는 고전류 전자공학 연구소에서 개발되었고 코팅 증착 공정의 코팅 증착과 이온 주입에 앞서 넓은 기판들(특히, 건축 유리들)의 최종 세척을 위해 개발되었다. 이 장치의 특징은 저전압으로 절연된 기판의 세척 효율성을 높이기 위하여 부가적인 공동(空洞) 음극의 방전을 사용한다는 점이다. 플라즈마 소스의 동작은 공동의 음극이 방전되는 동작 챔버(실)에 폐쇄적인 표류의 가속기에 의해 형성된 대량의 플라즈마와 이온의 흐름이 동시에 존재하는 것이 특징이다. 빔이온 에너지는 이온 세척과 이온 주입을 위해 최적인 200~400eV에 이른다 □ 주요 특징 -공급전압600 - 1000 V -선형 전류 밀도Up to 2 A/m -동작 압력범위0.05 - 0.3 Pa -냉각수냉식 -길이 최대2.5 m 관측 각도와 에너지에 따른 이온 분포 이온-플라즈마를 원천으로 한 자기(磁氣) 시스템의 다양한 변형체들은 하나 혹은 두개의 평탄 기판들을 동시에 세척이 가능하다