일반기술

클로라알켄닐실란들과 그 제조 방법

유동층 반응조나 교반형 반응조에서 금속규소를 구리 촉매하에서 일반식(II)로 표시되는 클로로알켄과 염화수소 혹은 반응중에 분해하여 염화수소를 발생시키는 일반식(II)로 표시되는 알킬클로라이드의 혼합기체를 220도C-350도C의 반응온도에서 직접 반응시켜 일반식(I)로 표시되는 클로로알켄닐실란을 제조하는 것이다. <구성>일반식(II)로 표시되는 화합물과 일반식(III)로 표시되는 화합물의 혼합기체를 금속규소와 반응온도 250도C-350도C에서 반응시켜 일반식(I)의 화합물을 제조하되 R1은 수소, 메틸기, SiHCl2, SiCl3 또는 CH2SiCl3이고 R2는 수소 또는 염소이고 R3은 수소 또는 염소이고 R4는 수소 또는 메틸기 또는 클로로메틸기이며 R5는 수소 또는 탄소수가 1 내지 4인 저급알칼리 또는 CH2CH2Cl이다.1. 일반식(Ⅰ)과 (Ⅱ)의 유기실란에 일반식(Ⅲ)의 1,3-디실라부탄 계열의 화합물을 혼합하여 용매로 톨루엔과아세톤을 사용하여 가수분해한 후 촉매로 디부틸틴디로레이트를 사용하여 보딩시켜 얻은, 묻어나지 않는 피막을 형성하는이형제 실리콘 수지.R-Si(X)3일반식(Ⅰ)(일반식(Ⅰ)에서 R은 메틸 또는 페닐기 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(CH3)2Si(X)2일반식(Ⅱ)(일반식(Ⅱ)에서 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)일반식(Ⅲ)(일반식(Ⅲ)에서 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 메틸, 수소 또는 염소기를, R4는 염소 또는 수소기를, 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)2. 일반식(Ⅰ)과 (Ⅱ)의 유기실란에 일반식(Ⅲ)의 1,3-디실라부탄 계열의 화합물을 혼합한 다음 용매로 톨루엔과 아세톤을 사용하여 가수분해한 후 촉매로서 디부틸틴디로레이트를 사용하여 보딩시키는 것이 특징인 제1항의 실리콘수지의 제조방법.R-Si(X)3일반식(Ⅰ)(일반식(Ⅰ)에서 R은 메틸 또는 페닐기 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(CH3)2Si(X)2일반식(Ⅱ)(일반식(Ⅱ)에서 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(일반식(Ⅲ)에서 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 메틸, 수소 또는 염소기를, R4는 염소 또는 수소기를, 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)3. 제2항에 있어서, 실란 혼합물중 일반식(Ⅰ)의 화합물이 40-70%, 일반식(Ⅲ)의 화합물이 0.5-10%이며, 나머지가 일반식(Ⅱ)의 화합물인 것이 특징인 제조방법.4. 제2항에 있어서, 상기 용매가 톨루엔 30-40%, 아세톤 10-40%이며, 물을 가수분해 가능한 규소-염소 결합몰수의 3-10배로 사용하여 가수분해시키는 것이 특징인 제조방법.5. 제2항에 있어서, 촉매인 디부틸틴디로레이트를 틴의 무게로 수지무게의 0.001-0.1%로 사용하여 가수분해후얻은 수지용액을 보딩시키는 것이 특징인 제조방법.

기술정보

기술분류
화학 > 기타 무기화학
보유기관
한국과학기술연구원
기술유형
일반기술
등록일
2000-12-15
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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