일반기술

임의 형상을 나노미터급으로 패터닝하기 위한 노광 장치 및 마스크

해당 기술은 임의 형상을 나노미터급으로 패터닝하기 위한 노광장치에 관한 것으로 새로운 회로를 제작할 때 해당 마스크만 바꿔주면 되므로 반도체 공정 시 칩의 단가를 혁신적으로 낮출 수 있을 뿐만 아니라 나노미터 가공이 필요한 전 분야에서 연구와 생산을 용이하게 할 수 있는 임의 형상을 나노미터급으로 패터닝하기 위한 노광장치 및 프리어 변환된 패턴이 형성된 마스크 제작 방법에 관한 것이다. 특히 임의 형상을 원점대칭의 형태로 만들어 프리어변환을 한 뒤 음수를 제거하는 방법으로 프리어변환된 패턴이 형성된 마스크를 만들어 노광장치에 특별한 추가사항없이 임의형상을 나노미터급으로 패터닝할 수 있다. 해당 기술의 임의형상을 나노미터급으로 패터닝하기 위한 노광장치는 광원을 제공하는 램프를 구비한 광원부, 상기 광원의 광이 통과하고 프리어변환된 패턴이 형성된 마스크를 장착하는 마스크부, 상기 마스크부를 지난 광을 프리어변화시키기 위한 적어도 하나의 렌즈로 구성된 렌즈부 및 photoresistor가 증착된 웨이퍼가 장착되는 PR부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 프리어변환된 패턴이 형성된 마스크를 이용하는 노광장치를 제공한다.