일반기술

초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스분사장치

해당 기술은 초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스분사장치에 관한 것으로서, 특히 초음파 헤드의 외곽을 감싸면서 그 초음파 헤드와의 사이에 일정 간극을 갖도록 분사커버를 형성하고, 분사커버의 출구 측에는 매질(가스)이 기판을 향해 배출되도록 하는 분사구를 형성하며, 분사커버의 도중에는 일정양의 매질이 머무를 수 있도록 일정크기의 냉각챔버를 형성하므로서, 반도체 제조공정 또는 엘시디 패널 제조공정 중에 기판(웨이퍼 또는 그래스) 표면에 붙어있는 불순물을 효율적으로 제거하여 세정 처리할 수 있음은 물론 장시간 연속적으로 초음파 헤드를 사용하더라도 분사커버를 통과하는 저온의 매질에 의해 초음파헤드가 효율적으로 냉각되어 과열에 의한 고장을 방지할 수 있도록 한 초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스 분사장치에 관한 것이다.기판위로 초음파를 발생시키는 초음파헤드를 포함하는 초음파 건식 세정기에 있어서, 초음파헤드의 외곽으로 초음파헤드와의 사이에 매질(가스)이 통과될 수 있는 소정의 간극을 갖도록 분사커버를 형성하고, 분사커버의 출구측은 기판 위를 향해 매질이 분사될 수 있도록 분사구를 형성하며, 분사커버의 입구측은 가스유동관에 의해 가스공급기와 연결되도록 구성하고, 분사커버의 중간부분에는 일정양의 매질이 머무를 수 있도록 일정크기의 냉각챔버를 형성하여 매질이 초음파헤드에 접촉되는 시간이 연장되도록 한 것을 특징으로 하는 초음파 건식 세정기의 세정헤드 냉각 및 가스분사장치이다.