일반기술

마이크로 웨이브 소스를 이용한 전도성 고분자막의 건식 식각 방법

해당 기술은 고가의 장비 없이 정교한 패턴을 얻을 수 있으며, 하판과의 정렬이 용이하도록 하기 위한 것임. 전도성 폴리머막의 패턴형성을 위한 공정에 있어서, 기상중합 방법으로 형성된 폴리에틸렌디옥시티오펜 막의 패터닝을 일반적인 반도체공정으로 실시하며, 마이크로웨이브 소스를 이용하여, 플로렌계열의 가스를 사용하지 않고, 감광성 수지 패턴과의 선택비가 나오는 건식식각 공정을 실시하는 것을 특징으로 하고 있음. 기판 상에 전도성 폴리머 막을 형성하는 단계와, 표면에 감광성 수지를 형성 및 패터닝하는 방법과, 감광성 수지 패턴이 없이 노출된 전도성 폴리머막을 제거하기 위해 건식 에칭하는 단계와, 감광성 수지 패턴을 제거하는 단계에 의하여 형성된 전도성 폴리머막으로 전극을 형성. 폴리에틸렌디옥시티오펜 막을 건식 식각하므로써, 감광성 수지를 이용한 일반적인 반도체공정을 그대로 적용 가능하여 align과 패턴이 정교하게 되어 고품질의 유연성 디스플레이 제조가 가능하게 되었고, 고가의 건식식각 장비가 불필요하여 제조비용을 절감할 수 있게 되었으며, 하판과의 정렬이 손쉽게 되어 생산성을 향상시키게 되는 효과가 있음.