일반기술

2-이미노티아졸린 유도체, 그의 염 및 제조방법

[구성]일반식(Ⅰ)로 표시되는 새로운 2-이미노티아졸린 유도체 및 그의 염산염 또는 브롬산염과 그 제조방법에 관한 것으로, 이 화합물은 살균제로 사용가능하며, 특히, 농약살균제로 효과 높은 화학약품이다. 이의 제조는 일반식(Ⅳ)로 표시되는 이소티오시아네이트 유도체와 일반식(Ⅴ)로 표시되는 알킬아민 또는 아릴아민을 비활성 유기 용매중에서 반응시켜 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 티오우레아 유도체를 제조하는 제 1 공정과 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 티오우레아 유도체와 일반식(Ⅶ)로 표시되는 알파-할로케톤 유도체를 비활성 유기용매중에서 반응시켜 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 염산염 또는 브롬산염을 제조하는 제 2 공정으로 이루어진다. 일반식(Ⅰ)의 2-이미노티아졸린 유도체는 일반식(Ⅰ)의 염산염 또는 브롬산염을 무기염기 또는 유기염기로 처리하여 염산염이나 브롬산염을 제거시킴으로써 얻을 수 있다.1. 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린 유도체 및 그의 염일반식(Ⅰ)에 있어서, R1과 R2는 각각 수소, 메틸, 에틸 페닐, 알콕시카르보닐, 알콕시카르보닐메틸렌, 아미노카르보닐,아미노카르보닐메틸렌 또는 프탈이미딜기를 표시하며, 서로 같거나 다를 수 있고 그 위치가 서로 바뀔수 있으며, R5CO(CH2)n로 표시되는 알콕시카르보닐메틸렌기에서 R5는 메톡시, 에톡시 또는 프탈이미딜기를 표시하며, n은 0 또는 1이며, R6R7NCO(CH2)n 으로 표시되는 아미노카르보닐메틸렌기에서 R6과 R7은 수소, 페닐, 클로로페닐, 프로필페닐 또는 디클로로페닐로구성된 할로페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐기로 표시되는 알킬페닐, 메톡시페닐의 알콕시페닐 또는 시아노페닐기이며, n은 0또는 1이며, R3는 메틸, 에틸, 시클로헥실, 비닐메틸기로 표시되는 알킬, 페닐 또는 페닐에틸기로 구성되는 아릴기이며,R4는 페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐, 클로로페닐, 브로모페닐, 플루오르페닐, 메톡시페닐, 벤조일페닐, 시아노페닐 또는 페녹시페닐로 구성되는 치환된 페닐기, 피리미딜, 모르포닐 또는 피페리디닐기에서 질소원자 또는 산소원자가 포함된 헤테로고리 화합물을 표시하며, X는 Br 또는 Cl이다.2. 일반식(Ⅳ)로 표시되는 이소티오시아네이트 유도체와 일반식(Ⅴ)로 표시되는 알킬아민 또는 아릴아민을 비활성 유기용매중에서 반응시켜 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 티오우레아 유도체를 제조하는 제 1 공정과 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 티오우레아 유도체와 일반식(Ⅶ)로 표시되는 알파-할로케톤 유도체를 비활성 유기용매중에서 반응시켜 일반식(Ⅰ')로 표시되는 2-이미노티아졸린의 염을 제조하는 제 2 공정으로 이루어지는 것이 특징인 일반식(Ⅰ')로 표시되는 2-이미노티아졸린의 염산염 또는 브롬산염의 제조방법.(식 중, R1과 R2는 각각 수소, 메틸, 에틸, 페닐, 알콕시카르보닐, 알콕시카르보닐 메틸렌, 아미노카르보닐, 아미노카르보닐메틸렌 또는 파탈이미딜기를 표시하며, 서로 같거나 다를 수 있고 그 위치가 서로 바뀔수 있으며, R5CO(CH2)n 로 표시되는 알콕시카르보닐메틸렌기에서 R5는 메톡시, 에톡시 또는 프탈이미딜기를 표시하며, n은 0 또는 1이며, R6R7NCO(CH2)n 으로 표시되는 아미노카르보닐메틸렌기에서 R6과 R7은 수소, 페닐, 클로로페닐, 프로필페닐 또는 디클로로페닐로 구성된 할로페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐기로 표시되는 알킬페닐, 메톡시페닐의 알콕시페닐 또는 시아노페닐기이며, n은 0 또는 1이며, R3는 메틸, 에틸, 시클로헥실, 비닐메틸기로 표시되는 알킬, 페닐 또는 페닐에틸기로 구성되는 아릴기이며, R4는 페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐, 클로로페닐, 브로모페닐, 플루오르페닐, 메톡시페닐, 벤조일페닐, 시아노페닐 또는 페녹시페닐로 구성되는 치환된 페닐기, 피리미딜, 모르포닐 또는 피페리디닐기에서 질소원자 또는 산소원자가 포함된 헤테로고리 화합물을 표시함.3. 제2항에 있어서, 제 1 공정에서 사용된 비활성 유기용매가 아세톤, 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 에틸아세테이트, 벤젠 및 톨루엔 중에서 선택된 하나 또는 두가지 이상의 혼합용매인 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.4. 제2항에 있어서, 제 1 공정의 반응을 0 - 80℃의 온도에서 2 - 15시간 동안 수행하는 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.5. 제2항에 있어서, 제 2 공정에서 사용된 비활성 유기용매가 아세톤, 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 에틸아세테이트, 벤젠 및 톨루엔 중에서 하나 또는 두가지 이상의 혼합용매인 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.6. 제2항에 있어서, 제 2 공정의 반응을 0 - 100℃의 온도에서 2 - 24시간 동안 수행하는 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.7. 일반식(Ⅰ')로 표시되는 2-이미노티아졸린의 염산염 또는 브롬산염을 상온에서 염기로 처리하고 용매를 사용하여 추출하는 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.(식 중, R1과 R2는 각각 수소, 메틸, 에틸 페닐, 알콕시카르보닐, 알콕시카르보닐메틸렌, 아미노카르보닐, 아미노카르보닐메틸렌 또는 프탈이미딜기를 표시하며, 서로 같거나 다를 수 있고 그 위치가 서로 바뀔수 있으며, R5CO(CH2)n로 표시되는알콕시카르보닐메틸렌기에서 R5는 메톡시, 에톡시 또는 프탈이미딜기를 표시하며, n은 0 또는 1이며, R6R7NCO(CH2)n 으로표시되는 아미노카르보닐메틸렌기에서 R6과 R7은 수소, 페닐, 클로로페닐, 프로필페닐 또는 디클로로페닐로 구성된 할로페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐기로 표시되는 알킬페닐, 메톡시페닐의 알콕시페닐 또는 시아노페닐기이며, n은 0 또는 1이며,R3는 메틸, 에틸, 시클로헥실, 비닐메틸기로 표