일반기술

3-치환 세팔로스포린 유도체 및 그의 제조 방법

3-치환 세팔로스포린 유도체 및 그의 약리학상 허용 가능한 염 또는 에스테르; 상기 식에서, r1은 티아졸, 2-메틸티오티아졸, 2-페닐티오티아졸, 2-메톡시카르보닐티오펜이며, r2는 수소, 또는 카르복시 보호기로서 p-메톡시벤질, p-니트로벤질, 또는 디페닐메틸이며, r3는 수소, 메틸, 에틸 또는 시클로펜틸이며, r4는 수소, 또는 아미노 보호기로서 간가수분해나 염기가수분해에 의해 쉽게 제거될 수 있는 p-메톡시벤질, p-니트로벤질, 디페닐메틸이고, 파상선은 신 또는 안티 이성체 위치중 어느 한 위치에 있을 수 있음을 의미한다.1.다음 일반식(I)로 표시되는 3-치환 세팔로스포린 유도체 및 그의 약리학상 허용 가능한 염 또는 에스테르:상기식에서,R1은 티아졸,2-메틸리오티아졸,2-메톡시카르보닐리오펜이며, R2는 수소,또는 카르복시 보호기로서 p-메톡시벤질,p-니트로벤질,또는 디페닐메틸이며,R3는 수소,메틸,에틸,또는 시클로펜틸이며,r4는 수소, 또는 아미노 보호기로서 산가수분해나 염기가수분해에 의해 쉽게 제거될 수 있는 p-메톡시벤젠,p-니트로벤질, 디페닐메틸이고,파상선은 신 또는 안티 이성체 위치중 어느 한 위치에 있을 수 있음을 의미한다.2.다음 일반식(IV)의 화합물을 촉매 존재하에 다음 일반식(V)의 헤테로사이클린 틴 화합물과 반응시켜 아미노기가 보호된 다음 일반식(III)의 중간체 화합물을 얻고, 이 화합물의 아미노보호기를 제거하는 제1단계 및 아실화제로서 다음 일반식(II) 으로 표시되는 활성화된 에스테르 화합물을 사용하여, 얻어진 일반식 (III)의 화합물의 7-아미노기를 아실화시키고, 임의로 아미노 보호기 및 카르복시 보호기를 제거하는 제2단계로 이루어진 제1항에 따른 일반식(I)의 세팔로스포린 유도체의 제조방법.상기식에서, R1,R2,R3 및 R4는 제1항에서 정의된 것과 같으며, X는 1-히드록시벤조트리아졸,2-메츠칼로피리딘 또는 2-메르칼로벤조티아졸이며, Y는 트리플루오로메탄슬포닐 또는 에탄슬포닐이며, Z는 트리메틸스타닐, 트리에틸스타닐,또는 트리부틸스타닐이고, R4는 아미노 보호기로서 페닐아세틸,페녹시아세틸,2-티오페닐아세틸,또는 2-푸란일아세틸이다.3.제2항에 있어서, 제1단계에서 촉매가 필라듐 촉매,할로젠화 금속 촉매 및 포스핀 화합물의 혼합물인 것이 특징인 제조방법.