일반기술
나노막대제조용 화학증착장치
나노막대제조용 화학증착장치(200)에 관한 것으로, 챔버내에 기체화된 반도체재료를 주입하여 기판(21) 상에 나노막대들(42)을 형성하는 나노막대제조용 화학증착장치(200)에 있어서, 상기 장치(200)는 반응원료 기체를 포함한 반응가스들이 반응을 일으키도록 하기 위하여 열원을 공급하는 혼합가스반응 열원부(11) 및 상기 기판(21)상에 상기 반응가스들을 통해 나노막대들을 성장시키기 위하여 베이스로서 나노입자를 성장시키는 위한 열원을 공급하는 나노물질형성 열원부(12)를 포함하여 이루어지며, 상기 챔버는 상기 각각의 열원부(11,12)에 의해 영향을 받는 혼합가스반응 영역(C2) 및 나노물질형성 영역(C3)으로 구분된 것을 특징으로 한다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술
- 보유기관
- 경기기술이전센터
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2009-02-06
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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