일반기술

마그네트론 스퍼터링법을 이용한 산소／아르곤 유량비 조절을 통한 금속이 도핑된 ＺｎＯ 박막의 제조방법

마그네트론 스퍼터링법을 이용한 금속이 도핑된 ZNO 박막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 금속을 도핑시켜 ZNO 박막을 제조하는 공정에 있어서, 혼합기체로 흘려주는 산소/아르곤의 유량비를 조절함으로써 ZNO:AL 박막의 결정성, 광학적 특성, 전기적 특성, 투과도 등이 향상된 ZNO 박막의 제조방법에 관한 것이다.해당 기술에 의하면 결정성 및 표면 형상이 우수하고, 전기 전도성과 같은 전기적 특성이 향상된 ZNO 박막을 제조할 수 있다. 그 결과, 다양한 응용성으로 주목받고 있는 ZNO 박막의 응용 분야에서 그 적용 가능성을 높일 것으로 기대된다. 특히, 디스플레이 장치 분야에서 투명전극으로 사용되고 있는 기존기술의 ITO를 대체함으로써, 고가의 디스플레이 장치 등의 가격을 하락시킬 수 있을 것으로 기대된다.