일반기술
디지털 전자 스펙클 간섭을 이용한 위상측정 방법 및 장치
레이저 스펙클 패턴 간섭으로부터 얻어지는 랩핑 위상맵에서 에러를 유발할 수 있는 위상반전위치를 추출하여 잡음을 제거하고 잡음이 제거된 위상반전부 위치에서의 기울기 정보를 통해 위상반전위치를 보정함으로써 랩핑 위상맵에서 사용자가 원하는 형태의 3차원 위상정보를 제공하는 디지털 전자 스펙클 간섭을 이용한 위상 측정방법 및 위상 측정 시스템을 개시한다. 해당 기술의 디지털 전자 스펙클 간섭을 이용한 위상측정 방법은 측정대상체에 조사되는 레이저 빔을 이용하여 1차 랩핑 위상맵을 획득하는 단계와 1차 랩핑 위상맵에 대하여 노이즈를 제거하여 2차 랩핑 위상맵을 획득하는 단계와 획득된 2차 랩핑 위상맵으로부터 위상반전부를 추출하여 위상반전부의 위치를 원 위상번전부로 기록하는 단계와 기록된 원 위상반전부에서의 위상번전 변화가 없어지도록 2차 랩핑 위상맵을 위상 이동하는 단계와 위상 이동한 2차 랩핑 위상맵에서 원 위상반전부에서의 2차 노이즈 제거를 수행하여 3차 랩핑 위상맵을 생성하는 단계 및 3차 랩핑 위상맵으로부터 측정대상체에 대한 3차원 위상을 복원하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
기술정보
- 기술분류
- 원자력 > 기타 원자력 기반·첨단 기술
- 보유기관
- 한국원자력연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2009-02-20
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
발명명칭 정보 없음
출원번호 1020080002621