일반기술

X-선 고해상도 광학

X선 초점 광학의 개발이 1980년대 중반 이래로 마이크로전자공학 연구소에서 심층적으로 이루어지고 있다. 브레그-프레넬 존 플레이트가 스쳐가는 입사(grazing incidence)존 광학뿐 아니라 완전 결정과 X선 다층박막거울을 기반으로 우선 만들어졌다. 본 장비는 과거에 싱크로트론 소스 ESRF, Grenoble, LURE, Orsay (프랑스), BESSY-II (독일 베를린)에 사용되었다. 다양한 목적의 X선 광학 소자와 장비가 현재 초미세 초점을 가지고 방사선의 스펙트럼 또는 응집성을 조사할 수 있도록 제작 되고 있다. 이러한 소자들에 대한 연구가 실험실 싱크로트론 소스로 행하여졌다. 이 소자들의 측정 특징과 속성들은 세계 유수의 유사 제품들에 비해 전혀 손색이 없고 심지어 그것들을 능가한다. X선굴절 광학은 70~80%의 효율로 6~200keV의 양자 에너지 간격에서 X선 초점을 만들어낸다. 플레이너 굴절 렌즈는 실리콘, 두꺼운 층 다결정질 다이아몬드와 중합체 물질 기반으로 제조되었다.