일반기술

폐쇄 전자 편류를 가진 가속기 원리의 선형 IONPLASMA SOURCES

□ 기술개요폐쇄 전자 편류를 가진 가속기 원리의 선형 ION-PLASMA SOURCES는 코팅 증착 이전에 코팅 증착 과정에 도움을 주는 이온을 위해 큰 기판(특히, 건축 유리)의 끝마무리를 위해 고안되어졌다. 이온 플라스마 소스의 구조는 이온 유출 조밀도의 높은 균등성을 지킨다. □ 기술적 세부설명 공급전압 V 600 - 1000 선전류조밀도(Linear current density, A/m) Up to 2 가동전압범위(Operating pressure range, Pa ) 0.05 - 0.3 냉각 water 길이(m) Up to 2.5 □ 기술적 평가 및 경제적 이점 장치의 눈에 띠는 특징은 낮은 운영 전압에서 절연성 기판 청소의 효율성을 증가하는 추가 빈 음극선 출력의 사용이다. 소스 가동은 작동 공간에 폐쇄 편류 가속기에 의해 형성된 빈 음극선 출력량 플라스마 및 이온 교류의 동시 존재가 특징이다. 이온빔 에너지는 이온 청소와 이온 원조를 위해 최적인 200 - 400 eV에 도달한다. □ 응용분야장치는 각종 물자 및 물품의 표면의 이온 플라스마 수정의 기술에서 사용될 수 있다. 주요 목적은 코팅 증착 과정에서 도움을 주는 코팅과 이온의 적용 이전의 표면 청소 및 에칭이다. 절연성 기판에 단단한 탄소로 이루어진 코팅의 적용을 위해 이온 플라스마 소스 사용의 전망이 설명된다. 이온 전류 (±4% 안에) 선밀도의 높은 균등성은 소스가 마이크로 전자공학에서 사용될 수 있도록 한다.