일반기술
OES(2D-distributions of reactive particles, ions)기반 플라스마 소스 단층촬영법
플라스마 단층촬영법으로 액티브 라디칼 및 이온 스트림 포함 플라스마 스트림의 균일성에 대한 정보를 얻을 수 있다. "두개의 독립된 채널에 F-, Cl- to Br 포함 플라스마의 액티브 라디칼과 이온 방사 표시를 위한 동기 2채널 분광기, " 두개의 좌표에 자동 스캐닝 광학 탐지기 시스템, "단층촬영의 관리 소프트웨어 전 세트, "컴퓨터 단층촬영 특수 프로그램 패키지. 와퍼 표면의 플라스마 내 종적 분포 입자의 농도는 전체 제조 단계에서 플라스마 공정에 아주 중요하다. 그리고 이는 공정의 개발 주기에서 최적화되어야 한다. 그림에서 플라스마 광학 이슈 기재 스캐닝 단층촬영도와 플라스마 내 복구된 이미지 불균일성을 볼 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 정보 > 지리정보시스템 (Q17, Q82)
- 보유기관
- (재)송도테크노파크
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2009-02-20
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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