일반기술
플라스마 이머전 이온 임플란터용 고도 플라스마 진단
플라스마 소스 파라미터의 최적화는 다음을 이용하여 수행되었다"고밀도 플라스마에서의 종 식별 고속 음향광학 자동 분광기" 플라스마 밀도 공간 분해 측정, 전자 온도 및이온 균질 자동화 랭뮤어 탐침 셋업, DESIGN FEATURES OF PII - IMPLANTER " 플라스마 소스 - 광구경 마이크로웨이브 소스 가스 피딩 - 3 채널 체임버 벽 실드 - 고순도 쿼츠 와퍼 홀더 유형 - 정전하 와퍼 쿨링 - 간접 수냉, 헬륨 피딩 언더 와퍼 작동 체임버사이즈 - 350x40mm 총 중량 <500kg
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료
- 보유기관
- (재)송도테크노파크
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2009-02-20
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.