일반기술

아발란치 광검출기 제조 공정에서 이용되는 확산방법

해당 기술은 아발란치 광검출기의 제조 기술에 관한 것으로, 1번의 확산 공정으로 가드링 영역과 본접합 영역을 형성하는 새로운 공정을 제시하여 신뢰성 있는 아발란치 광검출기 제조가 가능하도록 하는 기술에 관한 것이다.- 해당 기술은 아발란치 광검출기 제조 공정에서 1번의 확산 공정으로 가드링영역과 본접합 영역을 형성하는 새로운 방식의 확산방법으로서, 클래드층상부에 본접합 영역을 개방하는 확산조절층의 패턴을 형성하고, 전체 구조 상부에 확산물질층을 형성하되, 본접합 영역과 가드링 영역 상부에 패턴이 잔류하도록 하고, 본접합 영역과 부유 가드링 영역에서의 확산 깊이가 서로 다르도록 확산물질층을 확산시키는 확산방법이다.- 해당 기술은 아발란치 광검출기의 제조공정에서 불순물 확산 공정의 재현성을 확보하는 것이다.- 일반적인 아발란치 광검출기의 제조공정에서 불순물 확산 공정에서 2회의 확산공정으로 가드링영역과 본접합 영역을 형성하는 것에 비해 해당 기술에 의하면, 1회의 확산 공정으로 가드링 영역과 본접합 영역을 형성할 수 있게 되어 공정이 간편하고 재현성을 확보할 수 있게 되어 신뢰성있는 소자의 제작이 가능해진다.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 전기/전자
보유기관
한국광기술원
기술유형
일반기술
등록일
2009-02-25
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

관련 특허

발명명칭 정보 없음

출원번호 1020050089249