일반기술

투명전도성 박막 및 그 제조방법

해당 기술은 투명전도성 박막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 유리 혹은 플라스틱 소재의 기판상에 투명전도성 박막을 증착하는 과정과 대전 가능한 두개의 전극을 구비하고, RF전원이 인가되어 공급된 방전가스 및 세정가스로 대기압에서 플라즈마를 발생시키고 그 플라즈마를 기판상에 증착된 박막에 조사하여 그 표면을 세정하는 과정과 세정된 박막 표면에 스퍼터링, 이온증착, 플라즈마 화학증착중 어느 하나의 방식으로 탄소박막을 증착형성하는 과정을 포함하여 이루어진다.해당 기술에따르면 투명전도성 박막의 표면에 탄소박막을 일정두께로 대기압 플라즈마를 이용하여 화학증착함으로써 매우 평탄한 표면조도를 가지면서 광투과도가 높고, 증착전후의 면저항 차이가 없으면서도 대기중에 방치하여도 불순물의 흡착에 따른 일함수값의 낮아짐이 없이 높게 유지되어 흑점발생, 발광효율 저하, 높은 구동전압 등의 문제를 일거에 해소시킬 수 있는 커다란 효과를 제공하게 된다.

기술정보

기술분류
정보 > 기타 정보
보유기관
한국재료연구원
기술유형
일반기술
등록일
2009-03-04
데이터 갱신일
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상세설명

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관련 특허

발명명칭 정보 없음

출원번호 1020050021078