일반기술

수소원자를 사용한 반도체 구조물의 표면세척 및 표면층의 수소처리를 위한 장비 및 기술

반도체 구조물 표면에서 산화물, 미세 먼지 및 유기적 오염 물질을 세척하고 전기물리적(electro-physical) 특성을 향상시키기 위하여 반도체 구조물의 표면층(near-surface)을 수소로 처리하는 장비와 기술을 고안하였습니다. 반도체 장비 및 직접회로 생산 그리고 과학 연구 분야에 해당 기술을 활용할 수 있습니다.□ 기술사양세척 기술의 원리는 반도체 구조물 표면의 오염 물질을 “건식” 진공 세척하는 것으로 금속 적층, 절연, 기타 박막이나 수소 원자를 이용한 이온 주입 공정 등과 통합된 진공 싸이클 내에서 수행됩니다.다른 “건식” 방법을 사용하는 것과 비교하여 제안된 세척기술의 장점은 수소 원자의 높은 반응성과 오염 물질을 제거하기 위한 화학적 메커니즘에 기인합니다. 해당 기술을 사용하면 향상된 특징을 갖는 반도체 장비와 직접회로를 생산할 수 있고 기술 공정의 재현성(reproduce-bility)을 증가시키고 장비 생산성을 높이고 환경적으로 안전한 생산을 가능케 합니다.□ 기술의 평가 및 이익잘 알려진 “습식” 화학 세척 방법과 달리 제안된 기술은 "건식" 프로세스로서 이어지는 일련의 기술적 처리작업과 함께 단일화된 진공 싸이클로 결합이 가능합니다. “건식" 세척 방법으로 잘 알려진 방법과 구별되는 점은 제안된 기술이 낮은 처리 온도에서 보다 높은 표면 품질을 생산할 수 있는 가능성을 제공한다는 것입니다.물성을 조절할 수 있는 능력을 가지고 있는 수소 처리 작업은 다른 대안적인 방법을 가지고 있지 않습니다.