일반기술

고진공 마그네트론 스파터링 타겟 건

일반적인 박막코팅 부양 광범위하게 사용되는 스파터링, evaporation 등 코팅관련 기술로, 양산형 박막증착장치로 진공플라즈마 스파터링 장치, 타겟 건, 다층기판홀더, 기판 장착 및 탈착 시스템으로 구성됨해당 기술은 광학박막(thin film), 반도체코팅, LCD의 ITO(Indium Tin Oxide)또는 IZO(Indium Zink Oxide)코팅 등의 분야에 광범위하게 사용되는 스퍼터링 장치의 타겟 소스에 관한 것이다. PVD중의 한방법인 sperttering은 Diode, Triode, magnetron, Ion gun, pulsed laser 등을 이용한 방법들이 있다. Diode나 Triode방식보다 후에 개발된 magnetron 방식은 증착효율과 박막의 질이 뛰어나 널리 이용되고 있다. 하지만 자기메모리 제조 등의 고순도의 정교한 박막 제조를 위해 Ion gun, pulsed laser 등을 이용한 고진공 상태의 박막 제조 방법이 이용되나, 낮은 증착률과 증착 균질도 떨어져 소형기판 증착에 이용된다.출원번호 : 2007-0128045