일반기술

옥사 졸리논계 유도체 및 그의 제조 방법과 용도

[구성]다음 일반식(I)의 옥사졸리논계 유도체.상기 식에서 r은 저급 알킬기 또는 할로겐,저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며,x는 같거나 서로 다르고,할로겐, 카보메톡시,니트로기 또는 할로겐이나 트리플루로로메틸기가 피환된 페녹시기를 나타내며,a는 질소 또는 탄소를 나타낸다.n은 1-3의 정수를 낱타낸다.1. 다음 일반식(1)의 옥사졸리논계 유도체. 상기 식에서 R은 저급 알킬기 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며, X는 같거나 서로 다르고, 할로겐, 카보메톡시, 니트로기 또는 할로겐이나 트리플루오로메틸기가 치환된 페녹시기를 나타내며, A는 질소 또는 탄소를 나타내며, n은 1-3의 정수를 나타낸다.2. 출발물질로서 다음 일반식(2)의 α-아미노산을 치환기가 있는 다음 일반식(3)의 산 클로라이드와 축합반응시켜 다음 일반식(4)의 아미노가 치환된 α-아미노산을 얻은 다음 무수초산과 반응시킨 후 탈수반응시키는 것으로 이루어진 제1항의 옥사졸리논계 유도체의 제조방법. 상기 식에서 R은 저급 알킬기 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며, X는 같거나 서로 다르고, 할로겐, 카보메톡시, 니트로기 또는 할로겐이나 트리플루오로메틸기가 치환된 페녹시기를 나타내며, A는 질소 또는 탄소를 나타내고, n은 1-3의 정수를 나타낸다.3. 유효 성분으로서 제1항의 옥사졸리논계 유도체를 함유한 제초제.