일반기술

전자계 고속 촬상 장치

해당 기술은 검사대상 물체로부터 방사되는 근방 전자계의 분포를 고속으로 취득할 수 있는 전자계 고속 촬상 장치에 관한 것이다. 조명 장치로부터 주파수 fLO로 진폭변조된 빛을 프로브에 조사하면 검사대상 물체α로부터 방사되는 주파수 fRF의 전자계에 의해 프로브의 복굴절 특성이 국소적으로 변화하는 것으로서 조명빛에 국소적인 편광 상태를 생기게 한다. 이것으로 조명빛의 변조 주파수 fLO와 검사대상 물체α로부터 방사되는 전자계의 주파수 fRF와의 차이 주파 성분Δf(｜ fLO－fRF｜) 을포함한 검출빛에 있어서의 국소적 편광 상태를 빛의 국소적 강도로 변환하고 촬상 장치의 이미지 센서로 촬상해 화소 신호를 화상 처리 장치로 연산 처리하고 검사대상 물체α로부터 방사되는 근방 전자계 분포의 이차원상을 생성해 화상 표시장치에 표시한다. 이것으로 지극히 단시간에 근방 전자계의 분포 화상을 취득할 수 있으며 장치 구성의 저렴화도 꾀할 수 있다.