일반기술

케텐, 알데히드 공중합체 및 이를 함유한 수지 조성물

반도체소자 등의 제조 공정에서 사용되며 소자에 미세한 패턴을 형성하기 위한 레지스터 조성물은 어느 정도의 안정성이 요구되며 다음 공정에서 쉽게 제거가 가능해야만 한다. 기존의 레지스터 조성물로는 케텐과 알데히드 공중합체가 잘 알려져 있지만 산에 의해 저분자량의 화합물로 분해되어 포스트베이크 시 분해한 저분자량 화합물이 휘산되기 때문에 드라이에칭용으로는 우수하지만 알칼리 현상형 에칭에는 적절하지 못했다. 이에 해당 기술은 알칼리 현상형에도 응용이 가능하며 기존의 화학 증폭형 레지스터에 비해 미세한 가공이 가능한 공중합체를 제공하려 한다. 말하자면 케텐과 방향족 알데히드로부터 용이하게 합성이 가능한 주쇄에 에스테르 결합을 가진 중합체 알데히드에 유래하는 구조 부분에 있어서 방향족 환상구조상의 치환기 위치가 다른 반복형 단위의 공중합체로 함으로써 폴리머 성분의 레지스터 조성물을 형성하도록 하여 위의 문제들을 해결하였다.