일반기술

알루미늄 및 인을 포함하는 분자체를 이용한 질소 산화물의 제거 방법

[목적]고온 조건이 아닌 상온에서 환원제 또는 금속을 담지시킨 촉매를 사용하지 않고도 여러 농도의 질소 산화물을 장시간에 걸쳐 제거할 수 있는 질소 산화물의 제거방법에 관한 것으로, 운전이 간단하고 운전 비용이 절감될 뿐만 아니라 제조 과정이 간단한 분자체를 이용한 질소 산화물의 제거방법을 제공한다. [구성]AlPO4계 분자체에 존재하는 결함 자리는 일산화탄소를 선택적으로 제거할 뿐만 아니라, 수분과의 접촉에 의해서도 그의 활성을 유지한다. 이러한 특성을 이용하여 상온에서 금속을 포함하지 않고 다른 반응물질 없이 AIPO4계 분자체 자체만으로도 질소 산화물을 선택적으로 제거하게 된다. 이때 AlPO4계 분자체로는 AlPO4, SAPO 및 MAPO, SOD, CHA, AEI, AEL, FAU, AEI 및 VFI의 골격 구조를 갖는 것이 바람직하다. 또한 일산화질소는 그 농도가 800 내지 950ppb이고, 수분의 유무와는 무관하게 그의 제거율은 90 내지 99%이다.1. 알루미늄 및 인을 포함하는 AlPO4계 분자체를 사용하는 것을 특징으로 하는 기체 중의 질소 산화물의 제거 방법.2. 제 1항에 있어서, 상기 알루미늄 및 인을 포함하는 AlPO4계 분자체는 유기 고분자 제거를 위한 소성 과정 후 물 중탕을 통하여 그 내부에 존재하는 구조 결함 자리를 활성화시킨 물질인 방법.3. 제 2항에 있어서, 상기 분자체는 SOD, AFl,AEL, FAU, AEI등의 골격 구조를 갖는 것인 방법.4. 제 1 내지 3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 질소 산화물은 일산화질소이고, 이 일산화질소는 다른 반응 물질 또는 금속 성분 없이 AlPO4계 분자체만에 의하여 상온 및 상압에서 제거되는 것인 방법.5. 제 4항에 있어서, 일산화질소는 그 농도가 800 내지 950ppb이고, 수분의 유무와는 무관하게 그의 제거율은 90 내지 99%인 것인 방법.6. 제 4항에 있어서, 일산화질소는 그 농도가 약 20ppm 이고, 수분이 있는 경우 그의 제거율은 약 98%인 것인 방법.7. 제 4항에 있어서, 일산화질소는 그 농도가 20 내지 90 ppm이고, 그외 수분 및 다른 대기 오염 물질이 존재하는 경우 그의 제거율은 50 내지 70%인 것인 방법.8. 제 4항에 있어서, 이산화질소는 그 농도가 30 내지 40ppb이고, 그외 수분 및 다른 대기오염 물질이 존재하는 경우 그의 제거율은 최고 10%인 것인 방법.