일반기술

LCR 동시소성을 위한 저항체용 페이스트 제조방법 및 그를 이용한 후막 저항체 제조방법

[구성]파이로클로(pyrochlore) 구조인 Pb2Ru2O6.5 계의 원료 분말 70중량%와, 결합제(binder) 20중량% 및 유기용매 10중량%를 혼합하거나, 또는 5중량%의 RuO2 분말과 95중량%의 유리 프릿트(SiO2-Bi2O3-CaO-Na2O )가 단순 혼합된 원료분말에 위와 같은 결합제 및 유기용매를 혼합하는 방법으로 저항체용 페이스트를 제조하였다. 이러한 페이스트를 알루미나, 유전체·자성체기판에 후막의 형태로 처리하고, 그 저항제를 고온·장시간의 열처리로 동시소성하여, 계면이 안정하고 전기적 특성이 양호한 후막저항체를 제조하였다. 또한, 도전상과 절연상의 혼합비율을 조절함으로써, 넓은 저항범위를 가지는 후막 저항체의 조성을 개발하였다.1. PbO 60-65중량%, Al2O3 2.5-7.5중량%, SiO2 21.5-30.5중량%, CaO 1중량%및 RuO2 5-10중량%로 이루어진 저항체용 페이스트 분말.2. PbO 60-65중량%, Al2O3 2.5-7.5중량%, SiO2 21.5-30.5중량%, CaO 1중량%의 조성으로 된 유리 프릿트 분말과 5-10중량%의 RuO2분말을 혼합하여,용융 및 급냉시키는 것을 특징으로 하는 저항체용 페이스트 분말 제조 방법.3. PbO 60-65중량%, Al2O3 2.5-7.5중량%, SiO2 21.5-30.5중량%, CaO 1중량%및 RuO2 5-10중량%로 이루어지는 분말 70중량%과, 유기 결합제(vehicle)20중량%및 유기 용매 10중량%의 혼합물로 이루어지는 틱소트로피(thixotropy)성질을 가지는 저항체 페이스트.4. RuO2분말 5-10중량%와 유리 프릿트(SiO2-Bi2O3-CaO-Na2O)90-95중량%으로 이루어지는 분말 70중량%, 유기 결합제(vehicle)20중량%및 유기 용매 10중량%의 혼합물로 이루어지는 틱소트로피(thixotropy)성질을 가지는 저항체 페이스트.5. 알루미나 기판 상에 제 3항 또는 제 4항에 의한 저항체용 페이스트를 후막처리하여, 그를 매시간당 300-1200℃이니 승온율로 850-920℃까지 승온하여, 10-120분간 유지한 후, 매시간당 200-400℃로 냉각시켜 소성함으로써, 다양한 범위의 소결 면저항을 가지는 저항체를 만드는 것을 특징으로 하는 후막 저항체 제조방법.6. 제 5항에 있어서, 상기 알루미나 기판 상에 스크린 프린터를 이용하여 전극(은 페이스트)을 형성하고, 저항체를 후막처리하여, 상기 전극과 저항체를 동시에 상기와 같은 방법으로 소성하는 것을 특징으로 하는 후막 저항체 제조방법.